빛으로 촬영한 수지를 칩 표면에 고정한 후 화학 처리나 확산 처리하는 기술

집적 회로 제작 시 실리콘칩 표면에 만들고자 하는 패턴을 빛으로 촬영한 수지를 칩 표면에 고정한 후 화학 처리나 확산 처리하는 기술. 이 기술의 핵심은 짧은 파장의 빛을 사용하여 정밀도를 높이는 것으로, 처음에는 가시광선, 자외선을 사용했으나 최근에는 전자 빔을 사용해 더 미세한 패턴을 만든다.

연구팀은 구조색 구현을 위해 소프트리소그래피로 나노사이즈의 라인패턴을 폴리머 기판 표면에 형성하였다. 또한, 해당 기판의 인장 후 표면처리를 하여 마이크로패턴을 형성하였다. 두 공정을 거쳐서 마이크로/나노 복합 계층구조를 제작했다.

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