빛에 노출됨으로써 약품에 대한 내성이 변화하는 고분자 재료를 이른다. 빛에 노출함으로써 약품에 대하여 불용성이 되는 네거형과 반대로 가용성으로 되는 포지형이 있다. 사진 제판이나 반도체 표면에 선택 에칭 처리하는 경우 등에 사용된다.

이에 삼성전자와 SK하이닉스는 고순도 불화수소(에칭가스)와 포토레지스트(감광액), 플루오린 폴리이미드 등 국내 직수입이 막힌 소재의 ‘제3국을 통한 우회수입’도 어렵다고 결론내렸다. 반도체 제조공정상 핵심 소재에 대한 수출규제가 장기화할 것으로 예상되는 가운데 유력하게 검토돼온 대안마저 막힌 상황이다.